混懸液研磨分散設備

產品簡介

混懸液研磨分散設備是專注于混懸液體系的高效加工設備，核心通過研磨介質撞擊與高剪切力協(xié)同作用。能打破物料團聚顆粒，實現微米至納米級細化，提升混懸液均勻性與穩(wěn)定性，避免分層沉淀。適配醫(yī)藥、化工、食品等行業(yè)，滿足不同粘度混懸液加工需求，操作可控，是保障混懸液產品品質的關鍵設備。

產品型號：GMD2000

更新時間：2025-11-11

廠商性質：生產廠家

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混懸液研磨分散設備

混懸劑（suspensions）系指難溶性固體藥物以微粒狀態(tài)分散于分散介質中形成的非均勻分散的液體藥劑。分散相微粒的大小一般在0.5～10μm之間，小的微?？蔀?.1μm，大的微?？蛇_50μm或更大?；鞈覄┑姆稚⒔橘|多為水，也有用植物油?；鞈覄儆跓崃W不穩(wěn)定的粗分散體系。
藥物可考慮制成混懸劑的情況為：①不溶性藥物需制成液體藥劑應用；②藥物的劑量超過了溶解度而不能制成溶液劑；③兩種溶液混合由于藥物的溶解度降低而析出固體藥物或產生難溶性化合物；④與溶液劑比較，為了使藥物緩釋長效。⑤與固體劑型比較，為了加快藥物的吸收速度，提高藥物的生物利用度。⑥固體劑型胃局部刺激性大的情況，可考慮用混懸劑。但對于毒劇藥物或劑量太小的藥物，為了保證用藥的安全性。則不宜制成混懸劑應用。

混懸液研磨分散設備

混懸劑的質量要求是：藥物本身化學性質應穩(wěn)定，有效期內藥物含量符合要求；混懸微粒細微均勻，微粒大小應符合該劑型的要求；微粒沉降緩慢，口服混懸劑沉降體積比應不低于0.90，沉降后不結塊，輕搖后應能迅速分散；混懸劑的粘度應適宜，傾倒時不沾瓶壁；外用混懸劑應易于涂布，不易流散；不得有發(fā)霉、酸敗、變色、異臭、異物、產生氣體或其他變質現象；標簽上應注明“用前搖勻"。
混懸劑一般為液體藥劑，也包括一種干混懸劑。它是將難溶性藥物與適宜輔料制成粉末狀或顆粒狀藥劑，臨用前加水振搖即可分散成混懸液。其主要是有利于解決混懸劑在保存過程中的穩(wěn)定性問題，并可簡化包裝，便于貯藏和攜帶。

混懸劑的制備應使固體藥物有適當的分散度，微粒分散均勻，混懸劑穩(wěn)定，再懸性好?；鞈覄┑闹苽浞椒ㄓ蟹稚⒎ê湍鄯?。
1.分散法將固體藥物粉碎、研磨成符合混懸劑要求的微粒，再分散于分散介質中制成混懸劑。小量制備可用研缽，大量生產時可用分散機、膠體磨高壓均質機研磨分散機等機械。
分散法制備混懸劑要考慮藥物的親水性。對于親水性藥物如氧化鋅、碳酸鈣、碳酸鎂、磺胺類等，一般可先將藥物粉碎至一定細度，再采用加液研磨法制備，即1份藥物加入0.4~0.6份的溶液，研磨至適宜的分散度，zui后加入處方中的剩余液體使成全量。加液研磨可用處方中的液體，如水、芳香水、糖漿、甘油等。此法可使藥物更容易粉碎，得到的混懸微?？蛇_到0.1～0.5μm.對于質重、硬度大的藥物，可采用“水飛法"制備?！八w法"可使藥物粉碎成極細的程度而有助于混懸劑的穩(wěn)定。

混懸液研磨分散設備

GMD2000研磨機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

GMD2000研磨機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

混懸液研磨分散設備選型表：

研磨分散機	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
GMSD2000/4	400	14,000	44	4	DN25/DN15
GMSD2000/5	1000	10,050	44	11	DN40/DN32
GMSD2000/10	3000	7,500	44	22	DN80/DN65
GMSD2000/20	8000	4,900	44	45	DN80/DN65
GMSD2000/30	20000	2,850	44	90	DN150/DN125
GMSD2000/50	60000	1,100	44	110	DN200/DN150
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調節(jié)到最大允許量的 10%。